本书主要根据作者近年来在碳纳米管领域的研究成果，并结合最新的科研进展撰写而成。从纳米碳管的结构出发，阐述了其力学、电学、光学等性能特点，着重阐述了元素掺杂等方法制备半导体型单壁碳纳米管及其在新型电子器件的应用。主要内容包括：单壁碳纳米管制备工艺的优化及其生长机理、S掺杂制备半导体性单壁碳纳米管粉体及拉曼光谱、半导体性单壁碳纳米管薄膜的可控制备及场发射、S掺杂单壁碳纳米管的理论模型与模拟计算、S掺杂单壁碳纳米管的加工及其纳电子器件等。本书论述严谨、结构合理、条理清晰、内容丰富新颖，是一本值得学习研究的著作。